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一起了解真空鍍膜的作用

來源:百度百科 點擊次數:182 發表時間:2019-09-11

鍍膜過程偏壓的作用:
1。真空等離子體中帶電粒子的能量提高,對工件表面進行轟擊和清洗(反濺射/刻蝕),使工件表面受到高能粒子的沖擊后得到一個全新的表面,從而提高后續沉積膜的附著力。
2.提高和控制真空等離子體中帶電粒子的能量,增加了碰撞電離的概率,吸引了帶電粒子的加速度,提高了薄膜與工件基體之間的結合力。
3.調整沉積規則,以通過不同的電壓輸出極性或模式改變膠片的顏色。
4。改變薄膜的晶體結構,提高薄膜質量。
鍍膜過程偏壓的分類:
1,直流負偏壓
當直流負偏壓加載在工件上時,等離子體中的正離子可以獲得更多的能量。通過加速將正離子與工件轟擊,并在一定程度上沉積出從靶表面飛濺的等電荷離子。直流負偏壓連續且不間斷,對基片具有一定的加熱效果。
2,直流正偏壓
在離子電鍍氣體放電中,氣相成核顆粒將表現出一定的負電位。在這種情況下,工件承受一定的正偏壓,這有利于薄膜沉積。
3,脈沖偏壓
在產生振蕩等離子體和降低脈沖占空比的同時,增加脈沖電源的強度,可以提高等離子體的密度與溫度。增強轟擊所有類型的基板(導電和非導電)。結果,二次電子的存活時間增加,碰撞幾率增加,等離子體密度增加。沉積速率可以通過調節脈沖頻率和占空比來控制。溫升可以通過調節脈沖頻率和占空比來控制。薄膜可以在低溫下形成,以避免破壞基底的原始結構。對于多弧,沉積速率過快,所以不適合電子器件等精密零件的薄膜沉積。脈沖偏壓可以得到更好的有效改善。
4, 零偏壓與懸浮偏壓
在沒有帶電粒子(如簡單蒸發等)的涂層過程中,可以選擇零偏壓/懸浮偏壓。
為了保護工件免受低溫(如塑料部件)的影響,為了防止工件變形,可以選擇零偏置/浮動偏置或選擇小占空比的低幅度偏置電壓。

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